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一种制备钛铝合金薄膜的方法

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专利申请号
CN201510648669.6
专利类型
发明专利
技术分类
C23C16/18(2006.01)I
专利有效期
2035-10-09
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专利信息
专利名称:一种制备钛铝合金薄膜的方法
商品编号:5641752
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申请日期:2015-10-09
公开/公告号:CN106567053B
授权公告日/公开日:2019-03-15
申请/专利权人: 中国***究所
发明/设计人: 丁玉***淑艳
主分类号:C23C16/18(2006.01)I
IPC分类号:C23C16/18(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要

本发明提供了一种制备TiAl合金薄膜的方法,其中,提供反应腔室,该反应腔室内放置有至少一个衬底;向反应腔室中引入铝前驱物和钛前驱物,所述铝前驱物具有结构式(I)的分子结构;使所述铝前驱物和所述钛前驱物与所述衬底接触,通过气相沉积在所述衬底表面形成钛铝合金薄膜。本发明提供的方法解决了传统PVD在小尺寸器件中的台阶覆盖问题及不完全填充的问题,同时也避免了采用等离子体辅助形成钛铝合金薄膜,使得基底不受等离子体损伤,保证器件性能和/或可靠性不受影响。

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