数字市场 专利库 一种电镀均匀的电解槽

一种电镀均匀的电解槽

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专利申请号
CN202121485868.7
专利类型
实用新型
技术分类
C25D17/04(2006.01)I
专利有效期
2031-07-01
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专利信息
专利名称:一种电镀均匀的电解槽
商品编号:5952792
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申请日期:2021-07-01
公开/公告号:CN214937912U
授权公告日/公开日:2021-11-30
申请/专利权人: 上海***公司
发明/设计人: 杜**
主分类号:C25D17/04(2006.01)I
IPC分类号:C25D17/04(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要

本实用新型公开了一种电镀均匀的电解槽,包括电解槽本体,电解槽本体的两端均设置有移动装置,移动装置包括固定板和支撑板,固定板的顶部设置有驱动电机,固定板的底部设置有四个万向轮,固定板在面向支撑板的一端上垂直设置有连接框架,连接框架的内部中间转动连接有螺杆,螺杆上与驱动电机驱动一端上均设置有伞齿轮且通过伞齿轮相齿合连接,支撑板在面向连接框架的一端顶部设置有连接板,连接板在靠近顶部的一端的侧部中间垂直设置有连接杆,连接杆的两侧均设置有限位板,连接杆的一端上设置有配合螺杆使用的螺纹环。本实用新型通过移动装置,可以便捷的对电解槽本体进行移动,操作简单,便于存放和维护,提高了使用的便捷性。

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