超细微发泡成型技术制备的超能反光片
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专利申请号:
CN201010289879.8
专利类型:
发明专利
技术分类:
C08L69/00(2006.01)I
专利有效期:
2030-09-21
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专利信息
专利名称:超细微发泡成型技术制备的超能反光片
商品编号:5857137
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申请日期:2010-09-21
公开/公告号:CN102408693A
授权公告日/公开日:2012-04-11
申请/专利权人:
上海***公司
发明/设计人:
姚**
主分类号:C08L69/00(2006.01)I
IPC分类号:C08L69/00(2006.01)I|C08L33/12(2006.01)I|C08K9/00(2006.01)I|C08K3/22(2006.01)I|C08J9/12(2006.01)I|F21V7/22(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要
本发明公开了一种超微细发泡成型技术制备的超能反光片,是一种纳米级超临界流体材料的制备过程的技术领域。其特征在于由按照如下质量比的原料组成,氧化镁∶氧化钛=1∶0.8-1.2组成混合无机物料,将上述原料混合完成后,按照混合无机物料∶聚甲基丙烯酸甲酯∶聚碳酸酯=(1-2)∶(3-4)∶(5-6)的比例熔融至超临界流体状态;本发明还公开了制备这种反光片的方法,将所述混合无机物料制备成所需范围的纳米级粒径粉末,再与所述聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯进行熔融,达到超临界状态,制备成型。本发明创新的采用纳米超临界技术反光片代替传统的膜结构反光片,采用漫反射代替镜面反射,反射率高达99.5%以上,反光片寿命也大大提高。
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