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一种低温真空蒸发源

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专利申请号
CN201710350948.3
专利类型
发明专利
技术分类
C23C14/26(2006.01)I
专利有效期
2037-05-17
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专利信息
专利名称:一种低温真空蒸发源
商品编号:5791823
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申请日期:2017-05-17
公开/公告号:CN107217236A
授权公告日/公开日:2017-09-29
申请/专利权人: 大连***学
发明/设计人: 郭**
主分类号:C23C14/26(2006.01)I
IPC分类号:C23C14/26(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要

本发明公开了一种低温真空蒸发源,包括加热系统、冷却系统、测温系统、控制系统、连接组件;该装置中电极通电对加热系统的灯丝加热,当其温度达到坩埚内物质的升华温度时,源物质开始蒸发,蒸发出的气体分子在真空腔体内发射到待镀膜的基体上,可实现对碱金属和有机化合物的蒸发;测温系统的热电偶通过电偶丝传导检测实时蒸发温度,冷却系统的进水管通入冷却水,通过冷却罩内部的水循环对坩埚降温,达到低温蒸发的效果;坩埚口上面的旋转挡板可通过手动杆调节控制蒸发出的物质是否对基体镀膜。

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