数字市场 专利库 低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管及其制作方法

低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管及其制作方法

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专利申请号
CN201910582366.7
专利类型
发明专利
技术分类
H01L31/02(2006.01)I
专利有效期
2039-06-28
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专利信息
专利名称:低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管及其制作方法
商品编号:5764538
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申请日期:2019-06-28
公开/公告号:CN110246903B
授权公告日/公开日:2021-05-28
申请/专利权人: 湖南***学
发明/设计人: 金湘***洋
主分类号:H01L31/02(2006.01)I
IPC分类号:H01L31/02(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/107(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
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本发明公开了一种低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管,包括衬底P‑Sub,衬底P‑Sub上设有PBL区,PBL区上设有P‑EPI区,P‑EPI区中设有P‑Well区,P‑Well区中设有P+注入区,P‑EPI区内侧设有DN‑Well区,DN‑Well区中设有N‑Well区,N‑Well区中设有N+注入区;N+注入区、N‑Well区、DN‑Well区、PBL区,构成全耗尽区域。本发明中全耗尽区域的存在能够使得器件的光子检测概率提高,而且耗尽区会使得电场分布峰值远离器件材料的表面区域,大幅度降低材料缺陷引起的能级捕获问题,降低所述器件的暗电流,达到低噪声的目的。

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