数字市场 专利库 一体化集成环境维护的坩埚下降法单晶生产装置

一体化集成环境维护的坩埚下降法单晶生产装置

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专利申请号
CN200910141584.3
专利类型
发明专利
技术分类
F24F7/10(2006.01)I
专利有效期
2029-05-31
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专利信息
专利名称:一体化集成环境维护的坩埚下降法单晶生产装置
商品编号:5730317
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申请日期:2009-05-31
公开/公告号:CN101798703A
授权公告日/公开日:2010-08-11
申请/专利权人: 江苏***公司
发明/设计人: 李**
主分类号:F24F7/10(2006.01)I
IPC分类号:F24F7/10(2006.01)I
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本发明涉及一种一体化集成环境维护的坩埚下降法单晶生产装置,属于单晶生长领域。坩埚下降法单晶生产场所存在有毒元素污染空气问题,本案旨在解决该问题。本案装置包括由上而下依序邻接装设在一起的配**以及单晶培育仓以及集**,配**的底侧面板上均匀分布着许多孔洞,配**装设有进风接口,集**的上侧面板上均匀分布着许多孔洞,集**装设有排风接口,配**的底侧面板同时是单晶培育仓的顶部面板,集**的上侧面板同时是单晶培育仓的底部面板,以及,通风机,该通风机的出风口与所述配**的进风接口联通。运行该装置,能够在单晶培育仓空气温场几乎不受扰动的情形下,对单晶培育仓空气进行持续更新。该装置呈一体化集成形态。

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