一种高压光电化学原位反应装置
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专利申请号:
CN202010263925.0
专利类型:
发明专利
技术分类:
G01N27/26(2006.01)I
专利有效期:
2040-04-07
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专利信息
专利名称:一种高压光电化学原位反应装置
商品编号:5716043
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申请日期:2020-04-07
公开/公告号:CN111458386A
授权公告日/公开日:2020-07-28
申请/专利权人:
九**院
发明/设计人:
陈*
主分类号:G01N27/26(2006.01)I
IPC分类号:G01N27/26(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要
本发明公开一种高压光电化学原位反应装置,包括本体,本体中开设反应腔,反应腔上方设置上盖;反应腔中设置电子隔绝部件,电子隔绝部件将反应腔隔成第一反应腔和第二反应腔;第一反应腔中设置工作电极夹,工作电极夹通过设置在上盖上的升降驱动机构驱动,样品安装在工作电极夹上;本体上开设通光窗口,光能够通过通光窗口入射到第一反应腔中工作电极夹上的样品上;第二反应腔中设置对电极,还包括设置在反应腔中的参考电极;反应腔与外界之间密封,还包括气路系统,气路系统能够通向反应腔并向其中充入气体。本发明的优点在于能同时兼顾光催化反应、电催化反应以及提供压力环境,并解决在光电催化过程中电极自动驱动的技术问题。
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