一种痕量稀土离子的共沉淀富集方法
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专利申请号:
CN201710459239.9
专利类型:
发明专利
技术分类:
C22B59/00(2006.01)I
专利有效期:
2037-06-16
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专利信息
专利名称:一种痕量稀土离子的共沉淀富集方法
商品编号:5696874
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申请日期:2017-06-16
公开/公告号:CN107287455B
授权公告日/公开日:2019-01-18
申请/专利权人:
赣南***学
发明/设计人:
胡珊***建平
主分类号:C22B59/00(2006.01)I
IPC分类号:C22B59/00(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要
本发明公开了一种痕量稀土离子的共沉淀富集方法,属于痕量分析化学领域,具体步骤如下:先加入氯化铁和强碱,生成氢氧化铁红棕色絮状沉淀,进行一次共沉淀,形成胶体溶液;其次加入非显色金属的氯化物溶液,破坏氢氧化铁胶体,使之易沉淀,再加入强碱,生成大量氢氧化物白色沉淀,进行二次共沉淀;静置后固液分离,得到稀土离子沉淀物;再用强酸溶解沉淀物,得到待测定的稀土离子溶液。本发明采用两种氢氧化物分次共沉淀稀土离子,且其中一种为显色沉淀,在共沉淀富集稀土离子的同时起到显色沉淀与无色溶液分离程度的指示作用;不仅有助于稀土离子的富集,而且减少了沉淀损失,从而提高了富集率及富集倍数。
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