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一种浅层随钻电法探测方法和装置

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专利申请号
CN201710275352.1
专利类型
发明专利
技术分类
G01V3/20(2006.01)I
专利有效期
2037-04-24
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专利信息
专利名称:一种浅层随钻电法探测方法和装置
商品编号:5692528
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申请日期:2017-04-24
公开/公告号:CN106950605A
授权公告日/公开日:2017-07-14
申请/专利权人: 河南***院
发明/设计人: 张**
主分类号:G01V3/20(2006.01)I
IPC分类号:G01V3/20(2006.01)I;E21B47/00(2012.01)I;E21B49/00(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要

本发明涉及一种浅层随钻电法探测方法和装置。在钻探过程中实施的,且探测的四个接触点都在目标介质上,不需要反演工作,能够直接准确探测目标层的物理参数。此外,由于该方法不需要采取样品,最大限度上保持了探测目标介质的物理状态,属于原位测试方法,探测的介质参数更加接近真实值,且实施过程快速,效率明显增强。

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