一种鞋底足跟区缓冲结构鞋底模型设计方法
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专利申请号:
CN202010065537.1
专利类型:
发明专利
技术分类:
G06F30/20(2020.01)I
专利有效期:
2040-01-20
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专利信息
专利名称:一种鞋底足跟区缓冲结构鞋底模型设计方法
商品编号:5684538
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申请日期:2020-01-20
公开/公告号:CN111274702A
授权公告日/公开日:2020-06-12
申请/专利权人:
华**学
发明/设计人:
刘**
主分类号:G06F30/20(2020.01)I
IPC分类号:G06F30/20(2020.01)I;G06F30/23(2020.01)I;G06F111/10(2020.01)N
说明书摘要免费下载摘要
本发明公开了一种鞋底足跟区缓冲结构鞋底模型设计方法,包括步骤S1,建立优化前鞋底模型步骤S2,建立步骤S1中鞋底模型的有限元模型并进行静力分析;步骤S3,在鞋底的足跟区选定一个区域作为鞋底缓冲结构的优化区域,在足跟的这个区域分别建立四种不同多孔结构模型,获得四种足跟区缓冲多孔结构模型分别为M1,M2,M3,M4。步骤S4,对这四种进行边界条件的设置,进行phython语言进行功率流可视化编程,并相应的进行动力学分析,获得四种鞋底结构的功率流可视云图。步骤S5,对比四种模型的功率流云图,选择其中一种最优的模型,并作为最优的足跟区缓冲结构。本发明可确保鞋底在运动中,提高其缓冲性能而设计的优化设计方法。
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