一种硼/氮/磷共掺多孔碳纳米片的制备方法

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专利申请号：

CN202211001393.9

专利类型：

发明专利

技术分类：

H01G11/34(2013.01)I

专利有效期：

2042-08-19

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专利信息

专利名称：一种硼/氮/磷共掺多孔碳纳米片的制备方法

商品编号：5656993

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申请日期：2022-08-19

公开/公告号：CN115274313B

授权公告日/公开日：2023-06-20

申请/专利权人：安徽***学

发明/设计人：何孝***志鹏

主分类号：H01G11/34(2013.01)I

IPC分类号：H01G11/34(2013.01)I;H01G11/36(2013.01)I;H01G11/24(2013.01)I

说明书摘要免费下载摘要

本发明公开了一种硼/氮/磷共掺多孔碳纳米片的制备方法，属于碳材料制备技术领域。该方法是以邻菲罗啉为碳源和氮源，四硼酸钾为活化剂和硼源，醋酸锌为模板和修补碳源，磷酸为磷源，将邻菲罗啉、四硼酸钾、醋酸锌研磨混合后再将磷酸加入混合好的粉末中，干燥后转移至水平管式炉内，并在氩气气氛下，加热制得混合物，经酸洗、蒸馏水洗涤和干燥后得到超级电容器用硼/氮/磷共掺多孔碳纳米片。所得硼/氮/磷共掺多孔碳纳米片比表面积介于393～517m2/g之间，总孔容介于0.33～0.43cm3/g之间。所得多孔碳纳米片作为超级电容器电极材料，在电流密度为0.05A/g时，其比容达441F/g；电流密度增大到10A/g时，其比容保持为296F/g，显示了高的比容量和好的倍率性能。

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