一种在激光干涉光刻中实现相移的方法和系统

本发明公开了一种采用移相定位系统在激光干涉纳米光刻中移相的方法。其特征在于在两光束或多光束激光干涉光刻中，将两束或多束相干激光光束组合，发生干涉，通过控制一个或多个移相定位系统使光路的光程发生改变，实现干涉图形的相位移动及定位。在这种方法中，移相定位系统由电压源、位移驱动器和反射镜组成，通过给位移驱动器施加不同的电压，使反射镜也沿着它的轴向方向移动，实现相位移动及定位。移相定位系统也可通过电压源电压的改变，在与入射光垂直平面方向推动一个光楔，或通过电压源电压的变化，在与入射光垂直平面方向控制一个液晶显示器件(LCD)，或通过电压源电压的变化，控制一个驱动器拉伸光纤实现干涉图形的相移。这种移相的方法可以通过检测干涉图形的相位差，采用反馈(如锁相)控制干涉图形的相位移动，减少相位漂移使图案定位更精确。