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基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置

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专利申请号
CN201710992009.9
专利类型
发明专利
技术分类
G02B26/10(2006.01)I
专利有效期
2037-10-23
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专利信息
专利名称:基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置
商品编号:5641423
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申请日期:2017-10-23
公开/公告号:CN107765426B
授权公告日/公开日:2020-10-13
申请/专利权人: 长春***学
发明/设计人: 李丽***刘涛
主分类号:G02B26/10(2006.01)I
IPC分类号:G02B26/10(2006.01)I;G02B27/40(2006.01)I;G03B21/14(
说明书摘要免费下载摘要

基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置属于先进加工制造技术领域。现有技术定焦准确度低,光强自动搜索扫描的横向分辨力低。本发明其特征在于,在1/4波片之后设置双轴扫描振镜;在偏振分光棱镜的标定反射光光路上设置对称离焦双探测器光强探测模块;在对称离焦双探测器光强探测模块中,在分光棱镜的透射、反射光路上各配备一组汇聚物镜、点探测针孔和光电探测器,点探测针孔位于汇聚物镜与光电探测器之间,两个光电探测器的感光面分别相对于各自对应的汇聚物镜离焦+ΔZ、‑ΔZ;两个光电探测器各自的光强电信号输出端分别连接到测量控制模块的两个光强模拟信号输入端;测量控制模块的调焦驱动信号输出端连接到动态自聚焦模块中的精密位移机构。

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基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置专利,专利类型:发明授权,技术分类是:G02B26/10(2006.01)I,购买基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置专利,需要申请人和发明人的基础信息,还需提供基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置专利的详细信息。
专利交易转让时间是多久?
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