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一种位移测量系统及测量方法

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专利申请号
CN201710984847.1
专利类型
发明专利
技术分类
G01B11/02(2006.01)I
专利有效期
2037-10-20
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专利信息
专利名称:一种位移测量系统及测量方法
商品编号:5612201
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申请日期:2017-10-20
公开/公告号:CN107941154B
授权公告日/公开日:2018-04-20
申请/专利权人: 杭州***公司
发明/设计人: 侯昌***臧月
主分类号:G01B11/02(2006.01)I
IPC分类号:G01B11/02(2006.01)I
说明书摘要免费下载摘要

本发明公开了一种位移测量系统,其特征在于,所述系统包括:光源;Alvarez透镜组,所述Alvarez透镜组由面形互补的第一Alvarez透镜和第二Alvarez透镜组成,且所述第二Alvarez透镜相对于所述第一Alvarez透镜沿垂直于光轴方向移动,通过调整移动距离调整所述Alvarez透镜组焦距,进而控制所述平行光到达针孔的光能量;针孔,用于透过所述Alvarez透镜组射出会聚光;光探测器,用于探测从所述针孔透过的光能量。本发明提供的测量系统结构简单,仅几个器件结合光学知识就能实现位移的高精度测量,测量精度可达1.33nm。这对于高精度位移传感领域的应用来说,具有很重要的意义。

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