一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi
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专利申请号：
CN201811212909.8
专利类型：
发明专利
技术分类：
C23C24/10(2006.01)I
专利有效期：
2038-10-18
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专利信息
专利名称：一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi
商品编号：5593034
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申请日期：2018-10-18
公开/公告号：CN109234728B
授权公告日/公开日：2020-07-28
申请/专利权人：
江苏***院
发明/设计人：
孙顺***张扬
主分类号：C23C24/10(2006.01)I
IPC分类号：C23C24/10(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(
说明书摘要免费下载摘要
本发明属于难熔金属表面激光熔覆技术领域，具体涉及一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法。首先在钼合金表面溅射20～30μm厚度的Si薄层，然后再预置硅化物合金粉末，通过激光扫描将钼合金、溅射Si薄层、预置硅化物合金粉末结合起来，可得到力学性能优异、且与钼合金结合良好的MoSi2涂层。本发明制备的钼合金表面MoSi2涂层由于采用磁控溅射Si薄层，随后通过激光熔覆工艺可以形成Mo‑Si元素过渡层，能够改善钼合金和MoSi2涂层之间的结合强度。另一方面，采用激光熔覆工艺在溅射Si薄层的钼合金表面制备硅化物涂层，涂层组织均匀致密、结合良好，且由于多元合金化作用，可以提高涂层的服役性能。
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