数字市场 专利库 一种三维荧光纳米显微成像方法、系统及成像设备

一种三维荧光纳米显微成像方法、系统及成像设备

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专利申请号
CN201010279732.0
专利类型
发明专利
技术分类
G01N21/64
专利有效期
2030-09-13
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专利信息
专利名称:一种三维荧光纳米显微成像方法、系统及成像设备
商品编号:5558236
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申请日期:2010-09-13
公开/公告号:CN101963582B
授权公告日/公开日:2012-03-14
申请/专利权人: 深**学
发明/设计人: 于斌***憨笨
主分类号:G01N21/64
IPC分类号:G01N21/64
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本发明适用于显微成像领域,提供了一种三维荧光纳米显微成像方法、系统及成像设备,所述方法包括下述步骤:产生激发光;将所述激发光转换为片状激发光束;将所述片状激发光束作用于样品;探测被作用样品层内荧光标记物发射的荧光;横向定位,获取荧光标记物的二维位置;轴向定位,获取荧光标记物的轴向位置;三维重构,结合所述的二维位置和轴向位置获取被作用样品层的三维纳米分辨图像;轴向扫描,获取不同样品层的三维纳米分辨图像;获得完整样品的三维纳米分辨图像。本发明以片状光束作为激发光,结合轴向扫描,实现了高精度的三维纳米显微成像,适用于生物领域细胞等厚样品的三维显微成像,解决了厚样品内分子定位精度低,样品观测难的问题。

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