数字市场 专利库 一种加速金属片表面纳米二氧化硅自动沉积成膜装置

一种加速金属片表面纳米二氧化硅自动沉积成膜装置

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专利申请号
CN202110375975.2
专利类型
发明专利
技术分类
B05C3/10
专利有效期
2041-04-08
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专利信息
专利名称:一种加速金属片表面纳米二氧化硅自动沉积成膜装置
商品编号:5557451
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申请日期:2021-04-08
公开/公告号:CN113275188B
授权公告日/公开日:2022-12-30
申请/专利权人: 苏氏***公司
发明/设计人: 赖**
主分类号:B05C3/10
IPC分类号:B05C3/10; B05C13/02; B05C11/08
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本发明涉及一种纳米物质领域,尤其涉及一种加速金属片表面二氧化硅自动沉积成膜装置。本发明的目的是提供一种加速金属片表面二氧化硅自动沉积成膜装置。技术方案为:一种加速金属片表面二氧化硅自动沉积成膜装置,包括有固定架、控制器、输送机构、转浸机构和加速沉积成膜机构;固定架与控制器相连接;固定架与输送机构相连接;固定架与转浸机构相连接;固定架与加速沉积成膜机构相连接;转浸机构与加速沉积成膜机构相连接。本发明实现了能够有效的加快金属片表面纳米二氧化硅的沉积成膜,并且确保沉积成膜的金属片质量合格,有效的提高了生产效率的工作。

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