一种光刻对准标记及其对准方法

本发明公开了一种光刻对准标记，包括多个等间距平行设置的栅格条，所述多个栅格条的中心位置均垂直固定于一个长矩形条，用于光刻机对准的标记以及使用该标记的对准方法，以实现光刻机在套刻时不同结构之间的精准定位，利用这种对准标记可以在不同层图形之间产生设计者需要的偏移距离，可以利用少量的掩膜版图案在不同层图形之间根据需要产生不同偏移距离的一系列类似结构的电路。利用这种光刻对准标记产生的类似结构，可以用来研究结构在某个方向上结构变化对其电路性能的影响。