数字市场 专利库 一种苯并噻二唑并咪唑类荧光染料及其合成方法

一种苯并噻二唑并咪唑类荧光染料及其合成方法

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专利申请号
CN202111437500.8
专利类型
发明专利
技术分类
C07D513/04
专利有效期
2041-11-29
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专利信息
专利名称:一种苯并噻二唑并咪唑类荧光染料及其合成方法
商品编号:5358620
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申请日期:2021-11-29
公开/公告号:CN113999254B
授权公告日/公开日:2023-02-10
申请/专利权人: 青岛***学
发明/设计人: 胡志***张琦
主分类号:C07D513/04
IPC分类号:C07D513/04; C09K11/06; G01N21/64
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本发明公开了一种新型的苯并噻二唑并咪唑类荧光染料及合成方法,其结构通式如式I所示。苯并噻二唑为缺电子基团,是设计有机荧光小分子的良好受体,然而其在水中溶解性差,在水中荧光差等限制了其使用范围。本发明中,合成的染料具有苯并噻二唑并咪唑结构,由于咪唑具有供电子的氨基,可以增强苯并噻二唑的荧光强度,同时咪唑环上修饰的烷基或取代烷基R的不同,增大了苯并噻二唑母核的溶解度,取代芳基Ar的不同也可调节该类化合物从绿光到红光的改变。光学测试显示出该染料具有量子产率高、吸收发射波长长、Stokes位移大等优点,在光电材料、荧光探针等领域有着广阔的应用前景。

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