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基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法

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专利申请号
CN201710321577.6
专利类型
发明专利
技术分类
G02B5/18
专利有效期
2037-05-09
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专利信息
专利名称:基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法
商品编号:5351490
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申请日期:2017-05-09
公开/公告号:CN106970437B
授权公告日/公开日:2019-07-16
申请/专利权人: 南京***学
发明/设计人: 陆颢***德波
主分类号:G02B5/18
IPC分类号:G02B5/18
说明书摘要免费下载摘要

本发明公开了一种基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法,是一种高效,高精度,高分辨率的光栅制作方法,该光栅以二氧化硅为基底,在基底上设有多个平行的楔形反射式面,整个光栅表面镀银,以提高反射效果。制作过程中主要应用了倾斜光刻来制作楔形反射面,通过控制掩模板的大小和形状可以制作任意尺寸的光栅器件。由于单次生产出来的是大型的光栅,可以通过切割获得成片光栅,从而达到单片光栅的利益最大化。同时,紫外光刻法不会产生鬼线和伴线,不存在刻划光栅刻槽的微观不规则或者毛刺缺陷。即便在加工过程中出现了这些缺陷,在后面的质量检测中也可以将不合格片丢弃,保留合格的光栅出厂。

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