数字市场 专利库 微纳米双级多孔铜及其制备方法

微纳米双级多孔铜及其制备方法

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专利申请号
CN201711421038.6
专利类型
发明专利
技术分类
C22C1/08
专利有效期
2037-12-25
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专利信息
专利名称:微纳米双级多孔铜及其制备方法
商品编号:5234965
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申请日期:2017-12-25
公开/公告号:CN108149048B
授权公告日/公开日:2020-06-26
申请/专利权人: 西安***学
发明/设计人: 杨卿***淑华
主分类号:C22C1/08
IPC分类号:C22C1/08; C22C9/00; C22C9/04; C22C18/02; C22C1/04
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本发明公开了一种微纳米双级多孔铜,以烧结多孔Cu骨架为基体,基体上形成双连续的微纳米多孔结构,其中微米孔平均孔径为2.18μm‑3.68μm,纳米孔平均孔径为153nm‑234nm。实现了铜基体中烧结制备微米孔与脱合金制备纳米孔的有机结合,具有微米孔/纳米孔复合孔结构、三维双连续韧带/孔道结构的特点。其制备方法具体步骤如下:步骤1,将一定比例的Cu粉和Zn粉混合均匀后压制成坯,置于气氛管式炉中升温至一定温度,保温一定时间后冷却至室温,获得前驱体CuZn合金;步骤2,将前驱体置于盐酸溶液中脱合金至无明显气泡逸出,即制备得到微纳米双级多孔铜。其制备工艺简便,易实现。

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