数字市场 专利库 磁体部件、磁控溅射阴极及柔性线材镀膜用磁控溅射装置

磁体部件、磁控溅射阴极及柔性线材镀膜用磁控溅射装置

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专利申请号
CN202110327309.1
专利类型
发明专利
技术分类
C23C14/35
专利有效期
2041-03-26
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专利信息
专利名称:磁体部件、磁控溅射阴极及柔性线材镀膜用磁控溅射装置
商品编号:5052288
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申请日期:2021-03-26
公开/公告号:CN113151792B
授权公告日/公开日:2023-01-03
申请/专利权人: 洛阳***院
发明/设计人: 胡鹏***治国
主分类号:C23C14/35
IPC分类号:C23C14/35; C23C14/54; C23C14/56
说明书摘要免费下载摘要

一种磁体部件、磁控溅射阴极及柔性线材镀膜用磁控溅射装置,磁控溅射装置包括放辊部、镀膜部以及收辊部,镀膜部内环绕柔性线材的移动方向设置有至少2个上述磁控溅射阴极,每个磁控溅射阴极的辅磁体电源线分别连接至第一触头和第二触头,驱动轴传动连接有转盘,转盘上设置有可导通第一触头和第二触头的导电件,转盘转动过程中,导电件与第一触头和第二触头之间的位置关系间歇性变化,最终实现辅磁体的间歇性供电。本发明的磁控溅射阴极具有可调节变化的辅磁体,辅磁体间歇产生的磁场能够与外磁体和内磁体产生的磁场产生间歇的干涉效果,能够调节磁场的非平衡度,改善溅射镀膜的效果,以获得更为均匀的镀层,并且还能提高靶材的利用率。

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