数字市场 专利库 一种手机外壳图案防干涉印刷工艺及手机外壳

一种手机外壳图案防干涉印刷工艺及手机外壳

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专利申请号
CN202010401019.2
专利类型
发明专利
技术分类
B41M1/10
专利有效期
2040-05-13
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专利信息
专利名称:一种手机外壳图案防干涉印刷工艺及手机外壳
商品编号:4910567
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申请日期:2020-05-13
公开/公告号:CN111421975B
授权公告日/公开日:2022-10-11
申请/专利权人: 泉州***公司
发明/设计人: 冷从***宗宏
主分类号:B41M1/10
IPC分类号:B41M1/10; B41M1/30; B41C1/05; B41M7/00; H04M1/18; H04M1/02
说明书摘要免费下载摘要

本发明提供了一种手机外壳图案防干涉印刷工艺及手机外壳。本发明提供的手机外壳图案防干涉印刷工艺包括以下步骤:(1)利用图像处理软件设计待雕刻的图像文件;(2)调整步骤(1)中所述点阵图像的分辨率,得到第一次加网文件;(3)对步骤(2)中的所述第一次加网文件中网点的点间距进行调整,生成第二次加网文件等。本发明技术方案生产的手机壳表面形成连续无干涉波纹的图像,具有良好的美观度。且通过在塑料膜表面复合一层真空镀铝膜真空镀铝膜具有良好的光学反射效果,光线通过塑料膜的颜料层到达真空镀铝膜表面后发生漫反射,赋予手机壳表面绚丽的金属光泽,进一步提高了手机壳的美观度。

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