数字市场 专利库 一种用于成像探测器的半导体结构

一种用于成像探测器的半导体结构

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专利申请号
CN201820781769.5
专利类型
实用新型
技术分类
H01L31/10
专利有效期
2028-05-24
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专利信息
专利名称:一种用于成像探测器的半导体结构
商品编号:4874974
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申请日期:2018-05-24
公开/公告号:CN208111468U
授权公告日/公开日:2018-11-16
申请/专利权人: 廖**
发明/设计人: 廖**
主分类号:H01L31/10
IPC分类号:H01L31/10; H01L31/0352
说明书摘要免费下载摘要

本实用新型公开了一种用于成像探测器的半导体结构,包括半导体衬底、第一P重掺杂层、刻蚀凹槽、入射窗口,所述半导体衬底上方设置有吸收层,所述吸收层上方设置有第二P重掺杂层,所述第二P重掺杂层外侧设置有第一绝缘层,所述第一绝缘层与所述第二P重掺杂层粘接,所述第一绝缘层内部设置有第一绝缘材料填充层,所述第二P重掺杂层上方设置有所述第一P重掺杂层,所述第一P重掺杂层与所述第二P重掺杂层粘接;有益效果在于:本实用新型通过减小吸收层的厚度,对电子和空穴在芯片内部的运动时间,提高了芯片的响应速度,通过增加第一绝缘层,使得芯片内部的电容减小,从而提高了宽带。

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常见问题
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一种用于成像探测器的半导体结构专利,专利类型:实用新型,技术分类是:H01L31/10,购买一种用于成像探测器的半导体结构专利,需要申请人和发明人的基础信息,还需提供一种用于成像探测器的半导体结构专利的详细信息。
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